光刻机研发:哈工大在国家急需时刻从不缺席
栏目:公司新闻 发布时间:2021-02-09 07:52


在国家急需光刻机之际,哈工大的DPP-EUV光源出来了——这是哈工大在超精细加工,超精细丈量范畴几十年堆集的成果!

中科院长春光机所在光刻机所需的透镜及曝光体系上早已有打破,而长春光机所在实验室现已建立出了一套EUV光源设备。

现在长春光机所正根据哈工大DPP-EUV光源研发EUV曝光机,估计两年内可推出。

科普一下,光刻机的两大核心部件为双工件台和曝光体系。EUV光刻的全称为极紫外光刻(Extreme Ultra-violet),其光源首要有2种:

1、一种是DPP-EUV极紫外光源。放电激起等离子体EUV极紫外光源

荷兰ASML光刻机公司,哈工大研讨的都是这一种。


DPP EUV光源使用放电使负载(Xe或Sn)构成等离子体,辐射出紫外线,使用多层膜反射镜屡次反射净化能谱,取得1EUV光。

DPP EUV光源的长处是发生EUV的能量转化效率高,造价低;缺陷是电极热负载高,发生碎片多,机制杂乱,光学器材易于受损,光搜集角小。

2、激光等离子体光源(LPP)

LPP EUV体系首要包含激光器、会聚透镜、负载、光搜集器、掩膜、投影光学体系和芯片。

其原理是使用高功率激光加热负载(Xe或Sn)构成等离子体,等离子体辐射出紫外线,使用多层膜反射镜屡次反射净化能谱,取得1EUV光。

LPP EUV光源的长处是光源尺度小,发生碎片或粒子的品种少,光搜集效率高以及较简单扩大EUV输出功率。当然它也有缺陷,首要是体系规划杂乱,价格昂贵。

这2种光源。哈工大都在15年前就研讨了!

我国研讨EUV极紫外光源的2个首要单位是:

1、哈工大气体可调谐激光技能国家级要点实验室 。

2、我国科学院上海光机所(哈工大结业的研讨员担任的项目、副所长。神光2的担任人之一)。

而哈工大取的重大打破的是:

放电激起等离子体EUV极紫外光源。与荷兰ASML光刻机公司的是同一种EUV极紫外光源。

可是要把它做成为光刻机,还需要2年时刻!

其实我国在1977年就成功研讨了光刻机。那个时候,还没有荷兰ASML光刻机公司这个公司。

惋惜在我国80年代,都是造不如买去了。

曾经日本人走的是激光等离子体光源。兰ASML光刻机公司走的是气体放电激起等离子体EUV极紫外光源,哈工大气体可调谐激光技能国家级要点实验室研讨的东西与ASML光刻机公司研讨的相同。

现在荷兰光刻机的极紫外光源是美国产,还有一些首要部件是德国等国出产,清洗部件是蓝英配备出产。

假如3-5纳米光刻机两年内国产,则华为有救!哈工大劳绩明显!

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